Midi-Etuikleid mit Polygon-Patchwork

Dieses grafische und präzise Midikleid ist aus doppelseitiger Wolle gefertigt und zeichnet sich durch das auffällige High-Plains-Patchwork in kontrastierendem Zinnoberrot und Lapisblau aus. Der klare Rundhalsausschnitt und die ärmellose Silhouette betonen die skulpturalen Linien des Designs, während ein dezenter Seitenschlitz für Bewegung und Leichtigkeit sorgt. Mit einem verdeckten Reissverschluss am Rücken versehen, vermittelt es ein selbstbewusstes, architektonisches Statement mit moderner Eleganz.

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